При создании сложных фигурных масок для многослойных оптических покрытий на плоских и сферических зеркалах, не редки случаи "размывания" слоев под маску, их смещение друг относительно друга, а также технологические предельные минимальные размеры маски и дефекты ее изготовления. Для решения этих проблем нашими специалистами ведется разработка методики нанесения фигурных оптических покрытий с маской, нанесенной методом фотолитографии. Применение фотолитографии позволяет наносить сверхминиатюрные изображения масок с прецизионной точностью, а также "островные" рисунки. Получаемые зеркала формируют излучение максимального качества.

Цель фотолитографии — формирование заданного изображения на подложке. На подложку наносится светочувствительный материал — фоторезист, который подвергается облучению через оптическую систему специальной машины — фотолитографа — и фотошаблон (маску). После последующей обработки фоторезиста на подложке остается заданный рисунок. Чем меньше длина волны излучения, тем меньше размеры получаемых элементов рисунка.